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2024年10月29日 · 新型气相沉积硅碳负极材料在多孔碳材料骨架内部均匀沉积硅纳米颗粒后得到,是一种具有显著性能提升的锂电池负极材料。 与传统负极材料相比,其性能有了明显提升,且成本控制路径清晰,因此备受业界关注,成为大规模产业化的主流方案。
2024年11月21日 · 化学气相沉积法（CVD）是一种在基体表面上通过气相化学反应沉积固体薄膜的技术。 定义：CVD被定义为由于气相化学反应而在基体表面上沉积固体薄膜的过程,其中沉积物质通常是原子、分子或两者的组合。
化学气相沉积技术（Chemical Vapor Deposition,简称CVD）,是一种通过气态前驱体在材料表面沉积出薄膜的技术。 该技术最高早广泛应用于半导体行业,后来逐渐在太阳能电池、涂层和材料行业得到应用。
2024年7月26日 · 真空镀膜（又称薄膜沉积）是光伏电池制造的核心工艺,真空镀膜设备通常用于在基底上沉积导体、绝缘体或者半导体等材料膜层,使之具备一定的特殊性能,广泛应用于光伏、半导体等领域的生产制造环节。
2022年12月16日 · 化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition 简称CVD) 是利用气态或蒸汽态的物质在硅片表面发生化学反应,生成固态沉积物的过程。 TOPCon电池工艺流程中主要涉及LPCVD…
为了显示APCVDSiOx作为抗寄生电镀的掩膜效果,在沉积了SiOx局部上在激光开孔前涂覆PERC太阳能电池上,在正面接触栅极上镀HF。 结果表明,在APCVD SiOx中PERC细胞正面的涂层区没有发生寄生镀层,没有观察到镀金的划痕或痕迹,金字塔彻底面没有金属颗粒。
化学气相沉积(CVD)是近年来发展起来的制备各种无机复合材料的一种新技术。 简要介绍了CVD技术的原理和特点,分析了目前研究的各种锂离子电池正负极材料存在的问题,重点介绍了CVD技术在解决这些问题上的应用进展。
2017年4月1日 · 摘要 为了为锂电池行业大规模生产高性能硅基负极材料提供可能的建议,通过简化的化学气相沉积（CVD）工艺制备了 Cu 3 Si 纳米颗粒掺杂的多孔硅颗粒,并第一名次热处理。
化学气相沉积（CVD）是半导体行业广泛使用的一种技术,用于生产太阳能电池板和集成电路。 在太阳能电池板的生产过程中,CVD 被用来在基板上沉积硅薄膜。
激光化学气相沉积（LCVD）:利用激光光子能量激发化学气相反应,降低基底温度并防止损坏。 光化学气相沉积 (PCVD):利用光能引发化学反应,适用于精确确可控的薄膜沉积。 化学气相渗透 (CVI):主要是将气化的前驱体材料渗入多孔基底,常用于生产陶瓷复合